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日本中央電機cew微缺陷檢測設備

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更新日期:2024-03-19

簡要描述:

日本中央電機cew微缺陷檢測設備
使用高分辨率相機和高精度XY載物臺的二維檢查設備。
適用于檢查光學膜,片,觸摸面板等的表面劃痕,異物和缺陷。

日本中央電機cew微缺陷檢測設備
類型無損傷

日本中央電機cew微缺陷檢測設備

 

使用高分辨率相機和高精度XY載物臺的二維檢查設備。
適用于檢查光學膜,片,觸摸面板等的表面劃痕,異物和缺陷。
光學分辨率為“ 1.8μm”,可以進行超高清檢查。
它也可以用于尺寸測量,并且可以檢查二維沖壓產品。

特征

  • 檢查數據和圖像自動保存
  • 相機像素數:900萬像素
  • 高光學分辨率(1.8μm)使精美的檢查點看起來更漂亮
  • 非常適合檢查觸摸屏的外圍電極,印刷電路板上的細線斷線和短路

檢查使用

用于檢查觸摸屏和異物等缺陷!

  • 觸摸屏周邊電極缺陷檢查
  • 板材表面劃痕,異物檢查
  • 板缺陷檢查

規格

外形尺寸1000 x 1200 x 1080毫米
重量400公斤
測量范圍600 x 400毫米
被測物體的高度30毫米
光學分辨率1.8微米
控制分辨率1.0微米
重復定位精度±5微米
光學倍率2次
視場6.3毫米x 5.0毫米
監視器TFT 23.6型寬
分辨率:1920 x 1080像素
相機CCD單色1英寸
像素數:900萬像素
鏡片
遠心鏡頭 WD:65毫米
景深0.095毫米
照明同軸落射照明
電源AC100V 50/60赫茲
開發語言LabVIEW

日本中央電機cew微缺陷檢測設備

光學分解能1.8μm?スピード検査 タッチパネス周辺電極?基板表面など、微細欠陥の検査が可能

高解像度カメラと高精度X-Yステージを用いた二次元の検査裝置です。
光學フィルム、シートやタッチパネルなどの表面キズ、異物の検査や欠陥検査に適しています。
光學分解能「1.8μm」で、非常に高精細な検査が可能です。
寸法測定にも対応でき、二次元の打ち抜き加工品などの検査もできます。

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