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日本Excimer UVO3系統桌面型 光學測量儀

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更新日期：2024-03-22

簡要描述：

日本Excimer UVO3系統桌面型
使用EXIMA UV光源進行光表面處理，可以對薄膜材料等易受熱的物體進行低溫表面處理，因為被照射物體的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外，光化學反應具有不易損壞工件的特點。

日本Excimer UVO3系統桌面型 光學測量儀
品牌其他品牌產品種類臺式
數顯功能有溫控功能無
產地進口

日本Excimer UVO3系統桌面型

特征

  • 節省空間的桌面理想之選

  • 高速處理時間

  • 僅 AC100V 電源

  • 配備加工時間設定定時器

  • 門聯鎖設備

  • 配備臭氧消減處理裝置

  • 不使用汞燈

  • 內置高度調節臺

通過簡單的基本設計實現高性能。

使用EXIMA UV光源進行光表面處理，可以對薄膜材料等易受熱的物體進行低溫表面處理，因為被照射物體的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外，光化學反應具有不易損壞工件的特點。

應用示例

  • 潤濕性、親水性、親和性提高

  • 提高接合面的附著力

  • 表面改性

  • 有機物分解清洗

基本規格


產品名稱準分子紫外光處理設備桌面實驗室規格
型號E172-70
波長172納米
光源XeEscimer 燈 Φ18 x 120 mm
初始照度20mW/cm2以上
連續照明操作10分鐘內（由于輕巧緊湊的風冷設計）
外形尺寸195 (W) x 380 (D) x 480 (H) 毫米 *
效用電源 AC100V 50 / 60Hz 2A
定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換
定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定


日本Excimer UVO3系統桌面型

實驗準分子 172nm 紫外光源

型號：E500-172-110

以簡單的系統結構實現低成本和高性能。可以立即打開和關閉。風冷準分子燈是研究和開發的理想選擇。準分子紫外燈的光學表面處理由于準分子燈的特性，工件的溫度不易升高，因此對薄膜材料等易受熱影響的物體進行精確的低溫表面處理非常出色。

基本規格


產品名稱實驗準分子 172nm 光源
型號E500-172-110
波長172納米
光源Xe準分子燈 Φ18 x 120 mm
初始照度20mW/cm2以上
連續照明操作10分鐘內（由于輕巧緊湊的風冷設計）
外形尺寸燈箱 W 200 x H 45 x D 80 mm 電源 W 250 x H 133 x D 200 mm
效用電源 AC100V 50 / 60Hz 2A，臭氧解毒局部排氣
定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換
定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定




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